フッ素系ガスが可能にするデジタルトランスフォーメーション 

フッ素系ガス（F-ガス）には、大規模な温度制御を行うという重要な用途があります。とりわけ、データセンターを冷却し、火災の危険から守ることによって、進行中のデジタルトランスフォーメーションに貢献しています。

大規模なデータセンターでは、データの処理と保管のために大量のエネルギーと水を使用しています。モノのインターネット（IoT）のクラウドコンピューティングやスマートテクノロジーでデータセンターの設備が拡大し、それに伴いデータセンター冷却の需要も高まっています。F-ガス(フッ素系ガス)は、サーバー用途の空冷で重要な役割を果たしています。

F-ガス(フッ素系ガス)デジタルトランスフォーメーションの持続可能性を確保するために欠かせません。

フッ素系ガス(F-ガス)は次世代のテクノロジーを促進するために不可欠であり、欧州連合（EU）のデジタルトランスフォーメーションの推進力です。さらなるデジタル時代を迎えているEUでは、データの処理や保管に大量のエネルギーと水を使用する次世代データセンターを運営するためのエネルギー効率の向上や低水量での冷却技術が必要になります。地球温暖化係数（GWP）の低いF-ガスは、二相式浸漬冷却（2-PIC）などの新しい技術を可能にします。この技術は、データセンターが冷却に使用するエネルギー消費量を90%以上削減し、水の使用量をほぼゼロにするため、運営費用の削減につながります。さらに2-PICは冷却構造が簡素化されているため、データセンターの物理的設置面積を最大60%削減することで設備投資の削減ができ、次世代の高性能コンピューティングアプリケーションをサポートする最適な冷却機能も確保できます。また、F-ガスによる浸漬冷却には、廃熱を回収して近隣の住宅、オフィス、工業施設での利用に提供できるという独自の特徴があります。

F-ガスとは

F-ガス(フッ素系ガス)は、低GWP・超低GWPのハイドロフルオロオレフィン（HFO）とHFO混合物からなる革新的な特殊化学品です。こうした製品は、環境特性が向上しており、従来の製品と比べてGWPを大幅に低減でき、オゾン破壊係数はゼロになります。気候変動の脅威が高まる中で、GWPやオゾン層破壊係数が比較的高い従来のハイドロフルオロカーボン（HFC）、ハイドロクロロフルオロカーボン（HCFC）や高GWP HFCに代わる革新的なハイドロフルオロカーボン（HFC）やハイドロフルオロオレフィン(HFO)が開発されています。F-ガス(フッ素系ガス)はデータ集約型の厳しいグローバル規制承認プロセス（米国やEUなど）を経ており、ライフサイクル全体を通じて、意図した用途で安全に使用できると判断されています。